Plasmionique

カナダ Plasmionique社は研究開発及び小規模生産で使用する為に、カスタマイズされたプラズマ、レーザー及び真空をベースとした装置を設計・販売しております。これらの装置は成膜、イオン注入やエッチング及び高度な材料を合成する為にさまざまな手法にて設計・販売しております。国内外の大学や研究所、一般企業様と共同研究開発により新しい装置とプロセスを開発する事が出来ます。

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熱蒸着装置: EVADシリーズ

熱蒸着装置: EVADシリーズ

特長:

  • ●電子ビームや各種抵抗加熱による金属,誘電及び有機膜成膜
  • ●PID温度制御された低温蒸着セルによる有機分子成膜
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プラズマソース: PLUMEシリーズ

プラズマソース: PLUMEシリーズ

特長:

  • ●多目的用途に対応可能なICP, 中性原子、イオンソース
  • ●粉体やインライントリートメント用リモートプラズマソース/イマースドプラズマソース
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卓上薄膜蒸着及びプラズマ装置:
MAGNION, FLARION, EVADシリーズ

卓上薄膜蒸着及びプラズマ装置: MAGNION, FLARION, EVADシリーズ

特長:

  • ●マグネトロンスパッタPVD装置:シングル・マルチカソード

対応:

  • ●熱蒸着装置:有機・無機材料向け蒸発ボート・小クヌーセン・セル(K-セル)
  • ●グローブボックスとのインテグレーションも可能
卓上装置
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PVD
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プラズマエッチ/CVD
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蒸着装置
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プラズマ成膜及びエッチング装置: FLARIONシリーズ

プラズマ成膜及びエッチング装置: FLARIONシリーズ

特長:

  • ●PLUMシリーズのシームレスICPによるプラズマアシストリアクティブ成膜可能
  • ●基板回転機構、バイアス機構やプログラム制御された軸動作機構搭載可能
  • ●カスタマイズやインテグレーション用オプション対応
プラズマエッチ/CVD
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CVD/MOCVD/ALD
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ロール to ロール装置: ATMOS-R2Rシリーズ

ロール to ロール装置: ATMOS-R2Rシリーズ

特長:

  • ●様々なタイプのフレキシブルなフィルムへの表面トリートメント・成膜
  • ●同一チャンバーのマルチゾーン化によりクロスコンタミ低減
  • ●各種の成膜用ソースやトリートメント用ソースが同一チャンバーに搭載可能
  • ●FLOCONシリーズのガス、蒸気や液体制御システムの統合による高い対応性
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マイクロ波プラズマソース: MIRENIQUEシリーズ

マイクロ波プラズマソース: MIRENIQUEシリーズ

特長:

  • ●PECVD用やダイアモンド・DLC・CNTやプラズマアシスト重合等向けMWPECVD用R&D装置に最適なリアクター及びプラズマソース
  • ●MW-SURFATRONSは常圧又は減圧対応
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カーボンナノチューブ合成装置触媒蒸着

カーボンナノチューブ合成装置触媒蒸着

特長:

  • ●ハイブリッドリアクター構成によりPVDやPECVDプロセス対応
  • ●大気開放せずCNTやグラフェン合成の全てのステップ処理を実現
  • ●基板表面クリーニング、バッファー層成膜、触媒層を含めた合成ステップ対応
  • ●MAGNIONシリーズのマグネトロン装置にPLUMEシリーズのプラズマソースを搭載可能
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パルスレーザー成膜装置:GLAZEシリーズ

パルスレーザー成膜装置:GLAZEシリーズ

特長:

  • ●最先端の薄膜成膜用パルスレーザー成膜装置
  • ●特許出願中のハイブリッドプロセスによる高効率・高品質な成膜が可能
  • ●800℃以上の基板加熱と反応性成膜が可能
  • ●マグネトロンカソードも搭載可能
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プラズマイオン注入装置:PUPIONシリーズ

プラズマイオン注入装置:PUPIONシリーズ

特長:

  • ●ナノエレクトロニクス・フォトニクスでのShallow depth dopingや
    β放射線医療
  • ●グレードの放射性同位
  • ●放射性同位元素注入時の放射性汚染を最小限に抑制
  • ●用途に応じたプラズマ励起技術を提案可能
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CVD・MOCVDカスタマイズ装置

CVD・MOCVDカスタマイズ装置

特長:

  • ●研究開発や小規模バッチ量産向け装置
  • ●CVD, MOCVDやALD装置をカスタマイズ設計
  • ●PLUM, FLARION及びMIRENIQUEシリーズの多彩なプラズマソースが搭載可能
  • ●FLOCONシリーズのフロー管理システムが搭載
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CVD, PECVD横型炉装置:EVADシリーズ

CVD, PECVD横型炉装置:EVADシリーズ

特長:

  • ●ガス、蒸気、液体や固体原料から合成・成膜可能
  • ●シングルゾーン、マルチゾーンによる温度分布制御
  • ●回転機構付き高品質ステンレス製チャンバーにより粉体へも高温でのCVD/PECVDによる処理が可能
  • ●FLOCONシリーズのフロー管理システムが搭載
  • ●PLUMEシリーズのICPプラズマソースを搭載可能
  • ●PLASMICON制御システムにより全自動プロセス、データ保存に対応
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